描述：JKLR-420高低溫半導體冷是可以使用顯微鏡載物片載樣，且容易使用的通用型冷熱臺。此系列冷熱臺為大區域冷熱臺，主要用于等溫分析，不需要非常高的加熱和冷卻速率，溫度的熱穩定性優于0.1°C。

樣品放置在載物片上，載物片直接放置在拋光的加熱元件上且可以進行15mm的X、Y方向移動。樣品腔室是氣密的，氣體閥可以控制腔室內的環境，即惰性氣體或濕度。為了減小樣品上的溫度梯度，加熱臺上的光孔只有2.5mm

JKLR-420高低溫半導體冷熱臺

高低溫冷熱臺的結構和工作原理

高低溫冷熱臺主要由制冷系統、加熱系統、溫度控制系統和測試腔室等組成。制冷系統通常采用液氮或機械制冷，加熱系統采用電加熱，溫度控制系統采用高精度的溫度傳感器和控制算法進行控制。測試腔室是一個密閉的空間，可以放置需要進行溫度控制的樣品。

高低溫冷熱臺的工作原理是將樣品放置在測試腔室中，通過制冷系統將測試腔室降溫到所需的低溫，再通過加熱系統將測試腔室升溫到所需的室溫。在溫度控制過程中，溫度控制系統會不斷監測測試腔室的溫度，并根據需要進行調整，以保證溫度的精確控制。

高低溫冷熱臺的優點和應用領域

高低溫冷熱臺具有精度高、穩定性好、操作簡便等優點，因此在科研和工業生產中得到了廣泛的應用。例如，在材料科學領域中，高低溫冷熱臺可以用于研究不同溫度下材料的物理和化學性質；在航空航天領域中，高低溫冷熱臺可以用于模擬高空環境中的溫度變化；在電子行業中，高低溫冷熱臺可以用于測試半導體器件在不同溫度下的性能表現。

JKLR-420高低溫半導體冷熱臺

是可以使用顯微鏡載物片載樣，且容易使用的通用型冷熱臺。此系列冷熱臺為大區域冷熱臺，主要用于等溫分析，不需要非常高的加熱和冷卻速率，溫度的熱穩定性優于0.1°C。

樣品放置在載物片上，載物片直接放置在拋光的加熱元件上且可以進行15mm的X、Y方向移動。樣品腔室是氣密的，氣體閥可以控制腔室內的環境，即惰性氣體或濕度。為了減小樣品上的溫度梯度，加熱臺上的光孔只有2.5mm。

參數：

溫度范圍：-196℃到420℃（-196℃需要冷卻系統選項）

在線溫度/時間曲線

樣品區域53.5 x 43 mm

X、Y方向移動距離15 x 15mm

樣品夾持器76 x 26mm 標準載玻片

氣密樣品室，可以控制樣品環境

上滑蓋方便導入樣品

可用于透射和反射光

臺體尺寸- 166 x 90 x 24 mm

100 歐姆白金傳感器

全程溫度穩定性和精度<0.1°C

內蓋可以增加溫度穩定性

最大升溫速率50°C/min

物鏡最小工作距離6 mm

聚光鏡最小工作距離13.2 mm