描述：高溫熱臺 RT1500、RT1400、RT1200、RT1000、RT800

高溫熱臺主要供眾多學科（地質學、電子學、粉體包裹體、冶金學、材料學、制陶、物理學、化學、牙科、熱分析學）領域，從事研究、分析、和觀察使用。

高溫熱臺 RT1500、RT1400、RT1200、RT1000、RT800

高溫熱臺主要供眾多學科（地質學、電子學、粉體包裹體、冶金學、材料學、制陶、物理學、化學、牙科、熱分析學）領域，從事研究、分析、和觀察使用。

熱臺型號/溫度范圍：

RT1500：室溫~1500℃

RT1400：室溫~1400℃

RT1200：室溫~1200℃

RT1000：室溫~1000℃

RT800：室溫~800℃

樣品艙/觀察距離：φ7×3/6.5、 φ7×5/8.5、 φ8×2.5/6、 φ10×2.5/6、 φ8×4/7.5、 φ10×4/7.5 (mm)

觀察光孔：φ1.7mm

電熱材料：鉑金

最大升溫速率：100℃/min

測溫：鉑銠－鉑

溫度顯示與控溫精度：0.2℃

溫度控制：調節(jié)器精度0.2級，PID人工智能控制，50段程序

溫控軟件：中英文界面切換，實時操控，多點溫度校正、可設置溫速、控溫區(qū)間等，工藝曲線顯示與記錄

實驗環(huán)境：腔體密閉，可通氣氛

外殼冷卻：循環(huán)水冷

整套配置：高溫熱臺、溫控儀及溫控軟件、循環(huán)冷卻泵、制箔器及備附件等

注： 溫度參數(shù)與攝像關聯(lián)可選